您當前位置:
模切貨源 >
設備 >
其他 >
供應 > 詳細內容
[供應] 日本okamoto岡本半自動CMP化學機械拋光機s
有 效 期:永久
產品規格:適用晶圓尺寸: 3 - 8 英寸
產品數量:111
包裝說明:標準
價格說明:請來電咨詢
快速聯系:010-57128812 / 15300099033 王曉玉(女士)
詳細說明:**、設備概要: 1. SPP-600S 是半自動通用拋光型設備,不僅可以處理氧化層和金屬膜,而且可以去除晶圓表面損傷層。該機型裝備有兩個拋光頭和**個定盤修正頭,可實現高的吞吐量。它具有**特的軟件和觸摸屏,使用操作方便。 二、設備構成: 1. 拋光頭: **個定盤,兩個拋光頭同時工作,可實現高的吞吐量; 可**立編程(包括轉速)并單**控制每個拋光頭; 夾緊機構為真空吸附固定或利用晶圓表面張力進行固定; 裝備有保護圈以保證均勻性和邊緣輪廓; 拋光壓力基于實時監控; 具有擺動功能; 2. 定盤: 水冷系統可保證穩定運行 3. 修整主軸: 裝有專用修整頭; 修整壓力靠頭的自重; 4. 外殼: 全密封; 安全互鎖門; 5. 觸摸屏: 9.5 寸全彩屏; GUI 操作面板; 4 **程序控制; 6. 供液單元: 使用羅拉泵可實現穩定供液。 三、設備指標: 1. 適用晶圓尺寸厚度晶圓尺寸: 3 - 8 英寸 2. 設備尺寸及重量尺寸: 1380 (W) x 1210 (D)* x 1873 (H) 3. 廠務條件電力要求: 10KVA, 200V, 3 Phase, 50/60 Hz 壓縮空氣壓力: ≧5.0 Kg/cm2 去離子水壓力: 1.0-1.5Kg/cm2 去離子水流量: 5 升/分鐘 排氣量: 3m3/分鐘 冷卻水(真空泵用): 壓力:2.0Kg/cm2 流量:大于3 升/分鐘 冷卻水(拋光定盤冷 卻系統用): 壓力:2.0Kg/cm2 流量:大于3 升/分鐘
分享此模切貨源的方式