詳細說明：

激光標刻采用**細的激光光束聚焦后產生的高能量來進行加工，屬于非接觸性加工，不產生機械擠壓或機械應力，熱影響區域小，加工精細，成本低，易操作，無污染，可以完成**些常規方法無法實現的工藝。

機型特點

使用先進激光技術，采用進口半導體模塊，用波長808nm半導體激光二**管泵浦Nd:YAG晶體，激光器體積小，使用壽命長，光束模式好，光學系統全密封，具有光路預覽和焦點指示功能，外形美觀，操作方便，維護量小，標刻效率高。

適用材料和行業應用

可標刻金屬及多種非金屬材料。相對于傳統燈泵浦打標機，更適合應用于**些要求更精細、精度更高的場合。 應用于電子元器件、集成電路（IC）、電工電器、手機通訊、五金制品、工具配件、精密器械、眼鏡鐘表、首飾飾品、汽車配件、塑膠按鍵、建材、PVC管材、醫療器械等行業。 適用材料包括：普通金屬及合金（鐵、銅、鋁、鎂、鋅等所有金屬），稀有金屬及合金（金、銀、鈦），金屬氧化物（各種金屬氧化物均可），特殊表面處理（磷化、鋁陽**化、電鍍表面），ABS料（電器用品外殼，日用品），油墨（透光按鍵、印刷制品），環氧樹脂（電子元件的封裝、絕緣層）。

技術參數

機型                               EFE-DM-50/100     

激光波長                              1064nm

激光輸出功率                       50W/100W

激光重復頻率                     500 Hz -50kHz

標準雕刻范圍                Φ65mm/Φ110mm(可選配)

雕刻深度                            ≤0.3mm

雕刻線速                          ≤7000mm/s

**小線寬                            0.015mm

重復精度                           ±0.003mm

電力需求                     220V/單相/50Hz/15A

激光器連續工作時間                    24h

主機耗電功率                          2KW

主機系統尺寸             1400mm×900mm×1300mm

冷卻系統尺寸            650mm×310mm×665mm\